LED襯底,、外延及芯片的技術發(fā)展趨勢
文章來源:恒光電器
發(fā)布時間:2013-10-21
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技術發(fā)展和工藝改進,,使LED成本大幅度下降,推動了LED應用的全面發(fā)展,。為進一步提升LED節(jié)能效果,,全球相關單位均投入極大的研發(fā)力量,對LED性能,、可靠性進行深入的研究開發(fā),,特別在LED襯底、外延,、芯片的核心技術研究方面,,已取得突破性成果。對LED發(fā)展提出了不同的技術路線和“終極目標”的技術方案,,以及提出新的發(fā)光材料,。為此,本文除簡要描述半導體照明上游產業(yè)發(fā)展概況之外,,質量,,也重點介紹了LED襯底、外延,、芯片核心技術發(fā)展動態(tài)并探討相關技術的發(fā)展趨勢,,以及降低外延,、芯片成本的技術。
一,、半導體照明上游產業(yè)概況
半導體照明上游產業(yè)是指LED襯底,、外延及芯片相關的內容,這里將簡要介紹上游產業(yè)的概況及主要技術指標,。
1.LED襯底概況
目前用于LED產業(yè)化的襯底主要有藍寶石(Al2O3),、Sic和Si,,Cree公司用SiC為襯底,,東芝公司宣布8″的硅襯底生長LED將于2013年產業(yè)化,其余的大部分以藍寶石為主,。全球生產藍寶石襯底有130多家,,其中有80多家是近兩年加入的。2012年的需求量約9600萬片(以2″計算),,其中藍寶石圖形化襯底(PSS)占70%~80%,,目前仍以2″和4″襯底片為主,由于同樣面積的6″晶片比2″晶片要多出52%芯片,,所以預測幾年后將以6″為主,。由于生產能力過大,供大于求,,致使藍寶石晶片價格大幅度下降,,大約為每片7~8美元。在藍寶石晶體生長上大部分采用A軸向生長,,取出C軸向的晶片,,材料利用率過低,2″為35%左右,,6″約為20%,。有資料顯示:采用CHES法直接按C軸向生長,材料利用率可達75%,,而且減少了張力和應力,,從而降低了襯底晶片的彎曲度和翹曲度,因此,,極大提高了藍寶石襯底的生產效率,、晶片質量及降低成本。近幾年全球正在研究很多LED的新襯底,,LED照明企業(yè),,取得了很大成果。
中國生產藍寶石襯底的企業(yè)約50家,,其中已投產約20家左右,,有人統(tǒng)計,2011年我國生產能力已達15000萬片/年(以2″計算),超過全球的需求量,。而且由于藍寶石企業(yè)直接生產PSS襯底的不多,,企業(yè)的競爭力較差,企業(yè)走向轉型,、整合,、兼并是必然的。另外,,還有山東華光采用SiC襯底生長LED,,南昌晶能采用6″的Si襯底生長LED,均取得較好成果,。
2.LED外延及芯片產業(yè)概況
全球從事LED外延及芯片研發(fā)生產單位約160家,,共有MOCVD設備約3000臺,2011年生產芯片總量為820億只,,2012年為950億只,2012年生產過剩率達35%,。按4″晶片計算,生產能力為200萬片/月,,其中中國占25.8%,、臺灣21.8%、日本19.2%,、韓國17.3%,、美國11.8%、歐洲2.8%,。目前外延晶片以2″和4″為主,,據研究機構預測在幾年內將以6″晶片為主,會超過50%以上,。由于外延技術的不斷發(fā)展,,晶片尺寸不斷擴大,加上工藝技術的進一步改進,,外延片的成本會大幅度下降,。
中國LED外延及芯片企業(yè)約50多家,其中已投產的約36家,,正在籌建的有20多家,。2012年底已有MOCVD設備約980臺,其中大部分以2″為主,,2012年芯片的產量超過1000億只(含小芯片和四元系芯片),,產值達60億元(另有報道為80億元)。另外中國有16家企業(yè)正在研發(fā)制造MOCVD設備,,其中有8家已做出樣機,,并在上游企業(yè)試用,,預計2013年應該有國產MOCVD設備正式投產。由于國內LED上游企業(yè)過多,,大部分企業(yè)規(guī)模偏小,,缺乏研發(fā)能力和競爭力,走向整合,、兼并是必然的,。
3.LED主要技術指標
發(fā)光效率作為LED標志性技術指標,近兩年來有極大提升,,日亞,、飛利浦等幾個大企業(yè)實驗室水平均超過240lm/W,Cree公司2013年2月宣布實驗室光效達276lm/W,,豐田合成宣布在1mm×1mm的led芯片實現(xiàn)光通量400lm(在較大電流下),,首爾半導體宣布光通量達500lm(在1mm×1mm的LED芯片加1000mA電流下)。全球LED產業(yè)化水平,,目前可提供光效120~150lm/W的LED產品,Cree公司2012年12月初宣布可提供光效186lm/W的LED產品,,12月底又宣布可提供200lm/W的LED產品,。由于led技術迅速發(fā)展,到底LED發(fā)光效率能提升到什么程度才算最后結果呢?最近有幾種提法,,美國SSL計劃修定中提到LED光效產業(yè)化水平達266lm/W為終極目標,。三菱化學提出目標:1mm×1mm芯片發(fā)光亮度達1000lm光通量。日本田村制作提出目標:2mm×2mm芯片發(fā)光亮度達2000~3000lm光通量,。上述所提的這些目標均可達到單芯片制作成led光源,。
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